
Данное изделие представляет собой охлаждающую плиту из титанового сплава, являющуюся ключевым компонентом высокоточных систем теплоотвода. Изделие предназначено для терморегулирования в оборудовании для производства полупроводников (например, литографические установки, установки плазмохимического травления) или в высокомощных электронных устройствах.
Данное изделие представляет собой охлаждающую плиту из титанового сплава, являющуюся ключевым компонентом высокоточных систем теплоотвода. Изделие предназначено для терморегулирования в оборудовании для производства полупроводников (например, литографические установки, установки плазмохимического травления) или в высокомощных электронных устройствах. Деталь имеет форму неправильного квадрата, по краям расположены монтажные отверстия и установочные штифты, внутренняя структура содержит разветвлённую систему каналов для циркуляции охлаждающей жидкости с целью обеспечения эффективного теплообмена.
Подобные охлаждающие плиты изготавливаются преимущественно из высокопрочных и коррозионностойких α+β-двухфазных титановых сплавов, таких как TC4 (Ti-6Al-4V), которые отличаются высоким удельным показателем прочности, термостойкостью и устойчивостью к воздействию хлорид-ионов, что позволяет им сохранять работоспособность в течение длительного времени при температурах 450–500 °C. Внутренние каналы проходят прецизионную механическую обработку и полировку, что гарантирует отсутствие застойных зон и турбулентности потока охлаждающей жидкости, предотвращая локальный перегрев или деградацию материала. В высокоточном оборудовании, например в литографических установках, охлаждающая плита непосредственно контактирует с рабочим столом или оптической системой, обеспечивая высокоточный температурный контроль с точностью ±0,1 °C, что необходимо для достижения нанометровой точности совмещения при экспонировании топологических рисунков.